EUV光刻机是半导体制造的核心设备，只有ASML公司可以生产，单一价格约10亿元，在三星、台积电等公司急于购买之前，但今年半导体形势发生了变化，EUV相反，由于光刻机耗电过多，台积电计划关闭节电。
据产业链内部人士介绍，由于先进工艺产能利用率开始下降，评估后下降时间将持续一段时间，台积电计划将从年底开始部分EUV设备关机，以节省EUV设备耗电巨大。
据了解，目前台积电约有80台EUV主要用于7台光刻机nm，5nm以下先进技术，今年9月也将量产3nm工艺，都要EUV光刻机，但随之而来PC，手机、显卡等产品的需求下降，先进工艺生产的芯片肯定会受到影响。
苹果今年的iPhone14Pro系列的A16Cpu也没有急着上3nm工艺，还在用4nm此外，苹果还因为3nm能效问题取消了第一代3nm计划生产芯片。
相比之前的DUV光刻机，EUV光刻机需要使用高能激光器，光源会多次映射造成很大的损耗，初始效率只有0.02%，现在量产可以达到2%的效率，但也意味着大部分电力都要消耗。
EUV光刻机生产每天需要3万度电，每年耗电约1000万度，是一只充满电老虎。
